真空管式氣氛爐 高溫?zé)崽幚?/h1>

更新時(shí)間：2025-12-17      瀏覽次數(shù)：113

原理與工作流程

真空環(huán)境建立：通過(guò)機(jī)械泵與分子泵組合，將爐內(nèi)氣壓降至10?3Pa至10??Pa，形成接近無(wú)氧的低壓環(huán)境。這一過(guò)程有效排除了氧氣、水蒸氣等雜質(zhì)氣體，為材料處理提供純凈基礎(chǔ)。例如，在鋰離子電池正極材料燒結(jié)中，高真空環(huán)境可防止鈷元素氧化，使產(chǎn)品容量保持率提升至98%。

精確加熱控溫：采用電阻絲、硅碳棒或硅鉬棒等加熱元件，通過(guò)輻射方式對(duì)爐管內(nèi)材料進(jìn)行加熱。現(xiàn)代管式爐的溫控系統(tǒng)采用PID控制算法，結(jié)合高精度熱電偶，可實(shí)現(xiàn)±1℃的溫度精度。例如，在半導(dǎo)體材料生長(zhǎng)中，精確控溫可優(yōu)化晶粒尺寸，提升材料性能。

氣氛控制：根據(jù)工藝需求，通過(guò)質(zhì)量流量計(jì)精確控制惰性（如氬氣、氮?dú)猓?、還原性（如氫氣）或反應(yīng)性氣體（如氧氣、甲烷）的通入，形成特定氣氛環(huán)境。例如，在金屬燒結(jié)過(guò)程中，通入氫氣可防止氧化，同時(shí)促進(jìn)致密化。

優(yōu)勢(shì)

精確的溫度控制：

管式爐采用30段可編程PID自整定技術(shù)，支持自動(dòng)升溫和降溫，控溫精度可達(dá)±1℃。

這種精確控溫能力對(duì)于半導(dǎo)體材料生長(zhǎng)、催化劑制備等對(duì)溫度敏感的過(guò)程至關(guān)重要。

靈活的氣氛調(diào)節(jié)：

設(shè)備支持多種氣體環(huán)境，氣體流量控制精度可達(dá)±1%，滿足不同材料和工藝對(duì)氣氛環(huán)境的特殊要求。

例如，在鋰離子電池正極材料燒結(jié)中，通入氧氣可促進(jìn)鋰鈷均勻混合，提升材料循環(huán)穩(wěn)定性。

穩(wěn)定的真空性能：

采用分子泵與前級(jí)泵組合，可實(shí)現(xiàn)高真空環(huán)境（10?3Pa至10??Pa），有效避免材料在高溫下的氧化反應(yīng)。

例如，在航空航天材料處理中，真空管式爐用于TC4鈦合金等關(guān)鍵零件的真空退火工藝，可將零件殘余應(yīng)力降低至50MPa以下，疲勞壽命提升3倍。

• 上一篇：在高溫?zé)崽幚碇?真空管式氣氛爐有哪些不足?
• 
• 下一篇：高溫真空管式爐能加熱到什么溫度